Preview

Вестник Кемеровского государственного университета

Расширенный поиск

Кинетические закономерности фототока в системах А1 – WО3 – А1

Полный текст:

Аннотация

Установлено, что независимо от величины и полярности внешнего электрического поля темновой ток в системах Al – WО3 – Al значительно превышает темновой ток в системе А1 – стекло – А1. Установлено, что стационарное значение фототока системы Al – WО3 – Al на 5 порядков превышает значение темнового тока этой же системы. Регистрируемый в системе Al – WО3 – Al фототок определяется генерацией фотоносителей зарядов непосредственно в пленках W О3 и не зависит от фототока в системе А1 – стекло - А1 при воздействии света. Темновая релаксация фототока в системах Al – WО3 – Al происходит в течение 240 часов.

Об авторах

С. В. Бин
КемГУ
Россия


Э. П. Суровой
КемГУ
Россия


Список литературы

1. Третьяков Ю. Д. Химия нестехиометрических окислов. М.: Изд-во Московского ун-та, 1974. 364 с.

2. Лазарев В. Б., Соболев В. В., Шаплыгин И. С. Химические и физические свойства простых оксидов металлов. М.: Наука, 1983. 239 с.

3. Васько А. Т. Электрохимия молибдена и вольфрама. Киев: Наукова думка, 1977. 172 с.

4. Tubbs М. R. Optical Properties, Photographic and Holographic Applications of Photochromic and Electrochromic Layers // Brit. J. Appl. Phys. 1964. V. 15. P. 181.

5. Рамане Г. M. Структура и морфология аморфных пленок триоксида вольфрама и молибдена // Электрохромизм. Рига: ЛГУ им. П. Стучки, 1987. С. 143.

6. Maosong Tong. Guorui Dai. W03 thin film prepared by PECVD technique and its gas sensing properties to N02 // J. Materials Science. 2001. V. 36. P. 2535.

7. Андреев В. H., Никитин С. Е. Фотохромный эффект в клаг стерных системах оксидов // Физика твердого тела. 1999. Т.41. Вып. 7. С. 1323–1328.

8. Лусис А. Р. Электрохромный эффект и электрохромные материалы: физика и применение // Оксидные электрохромные материалы: межвуз. сб. научн. трудов. Рига: Изд-во ЛГУ им. П. Стучки, 1981. С. 13–37.

9. Лусис А. Р., Клявинъ Я. К., Миколайтис В. А. Электрохромные свойства тонких слоев трехокиси вольфрама // Учен. зап. ЛГУ. Рига: ЛГУ им. П. Стучки, 1974. С. 169–174.

10. Гуревич Ю. Я. Твердые электролиты. М.: Наука, 1986. 176 с.

11. Лусис А. Р., Клеперис Я. Я. Электрохромные зеркала - твердотельные ионные устройства // Электрохимия. 1992. Т. 28. Вып. 10. С. 1450–1455.

12. Суровой Э. П., Хамитов М. М., Шустов М. А., Баранников А. В. Направленное регулирование фоточувствительности окиси вольфрама // Бессеребряные и необычные фотопроцессы: тезисы докл. III Всесоюзн. конф. Вильнюс, 1980. С. 199–200.

13. Бин С. В., Борисова Н. В., Суровой Э. П., Титов И. В. Исследование релаксации тока в наноразмерных системах медь - оксид вольфрама (VI) - медь // Материаловедение. 2007. №4. С. 23–29.

14. Технология тонких пленок / под ред. Л. Майссела, Р. Гленга. Т. 1. М.: Советское радио, 1977. 664 с.

15. Борисова Н. В., Суровой Э. П., Титов И. В. Формирование систем «медь-оксид меди (I)» в процессе термической обработки пленок меди // Материаловедение. 2006. №7. С. 16–20.

16. Томашов Н. Д. Теория коррозии и защиты металлов. М.: Изд-во АН СССР, 1960. 592 с.

17. Титов И. В. Исследование процесса окисления наноразмерных слоев меди: автореф. дис. ... канд. хим. наук. Кемерово: КемГУ, 2006. 21 с.


Для цитирования:


Бин С.В., Суровой Э.П. Кинетические закономерности фототока в системах А1 – WО3 – А1. Вестник Кемеровского государственного университета. 2007;(3):80-84.

Просмотров: 6


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2078-8975 (Print)
ISSN 2078-8983 (Online)