Preview

Вестник Кемеровского государственного университета

Расширенный поиск

ОКИСЛЕНИЕ НАНОРАЗМЕРНЫХ ПЛЕНОК МЕДИ АММИАКОМ

Полный текст:

Об авторах

Э. П. Суровой
КемГУ
Россия


Н. В. Борисова
КемГУ
Россия


С. П. Говорина
КемГУ
Россия


Л. Н. Бугерко
КемГУ
Россия


Список литературы

1. Краткая химическая энциклопедия. Т. 3. -М.: Советская энциклопедия, 1964. - 1112 с.

2. Преснякова, А. А. Бескислородная медь / А. А. Преснякова. - Алма-Ата: Наука, 1985. - 136 с.

3. Стриха, В. И. Физические основы надежности контактов металл - полупроводник в интегральной электронике / В. И. Стриха, Е. В. Бузанева. - М.: Радио и связь, 1987. - 254 с.

4. Индутный, И. З. Фотостимулированные взаимодействия в структурах металл - полупроводник / И. З . Индутный, М. Т. Костышин, О. П. Касярум и др. - Киев: Наукова думка, 1992. - 240 с.

5. Суровой, Э. П. Закономерности формирования продуктов фотолиза систем азид серебра - медь / Э. П. Суровой, С. М. Сирик, Л. Н. Бугерко // Материаловедение. - 2006. - № 3. - С. 17 - 24.

6. Richardson, T. J. Electrochromism in copper oxide thin films / T. J. Richardson, J. L. Slack, M. D. Rubin // 4th International Meeting on Electrochromism. - 2000. - P. 298 - 304.

7. Zhou, G. Self-assembly of metal-oxide nanostructures: oxidation of Cu films by In situ UHV-TEM / G. Zhou, J. C Yang // Materials at high temperatures. - 2003. - V. 20 (3). - P. 247 - 252.

8. Akan, T. Variation in thickness of copper films deposited at various distances and angles using the thermionic vacuum arc / T. Akan, N. Ekem // Turk J Phys. - 2003. - V. 27. - P. 219 - 224.

9. Njeh, A. Reflectometry studies of the oxidation kinetics of thin copper films / А. Njeh, Т. Wieder, Н. Fuess // Surf. Interface Anal. - 2002. - V. 33. - P. 626 - 628.

10. Zhou,G. Dynamics of copper oxidation investigated by in situ UHV-TEM // Dissertation … Doctor of Philosophy degree - University of Pittsburgh, 2003. - 146 с.

11. Самсонова, Г. В. Физико-химические свойства окислов: справочник. - М.: Металлургия, 1969. - 456 с.

12. Волькенштейн, Ф. Ф. Физико-химия поверхности полупроводников / Ф. Ф. Волькенштейн. - М.: Наука, 1972. - 399 с.

13. Лазарев, В. Б. Химические и физические свойства простых оксидов металлов / В. Б. Лазарев, В. В. Соболев, И. С. Шаплыгин. - М.: Наука, 1983. - 239 с.

14. Борисова, Н. В. Формирование систем «медь - оксид меди (I)» в процессе термической обработки пленок меди / Н. В. Борисова, Э. П. Суровой, И. В. Титов // Материаловедение. - 2006. - № 7. - С. 16 - 21.

15. Вертопрахов, В. Н. Термостимулированные токи в неорганических веществах / В. Н Вертопрахов, Е. Г Сальман. - Новосибирск: Наука, 1979. - 336 с.

16. Борисова, Н. В. Закономерности формирования наноразмерных систем «алюминий - оксид алюминия» в процессе термической обработки пленок алюминия / Н. В. Борисова, Э. П. Суровой // Коррозия: материалы, защита. - 2007. - № 6. - С. 13 - 18.

17. Эпштейн, М. И. Измерения оптического излучения в электронике / М. И. Эпштейн. - Л.: Энергоатомиздат, 1990. - 256 с.

18. Томашов, Н. Д. Теория коррозии и защиты металлов / Н. Д. Томашов. - М.: Изд-во АН СССР, 1960. - 592 с.

19. Хауффе, К. Реакции в твердых телах и на их поверхности / К. Хауфе. - М.: Иностр. лит-ра, 1962. - 415 с.

20. Кубашевский, О. Окисление металлов и сплавов / О. Кубашевский, Б. Гопкинс. - М.: Металлургия, 1965. - 429 с.

21. Барре, П. Кинетика гетерогенных процессов / П. Баре. - М.: Мир, 1976. - 400 с.

22. Roy, S. K. A critical analysis of Mott-cabrera's equation in the low temperature oxidation of copper and its alloys / S. K. Roy, S. C. Sircar // Journal of Electrochem Soc. - 1981. - V. 30 (2). - P. 179 - 191.

23. Кофстад, П. Отклонение от стехиометрии, диффузия и электропроводность в простых окислах металлов / П. Кофстад. - М.: Мир, 1975. - 399 с


Для цитирования:


Суровой Э.П., Борисова Н.В., Говорина С.П., Бугерко Л.Н. ОКИСЛЕНИЕ НАНОРАЗМЕРНЫХ ПЛЕНОК МЕДИ АММИАКОМ. Вестник Кемеровского государственного университета. 2008;(1):101-106.

Просмотров: 38


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2078-8975 (Print)
ISSN 2078-8983 (Online)